ວິທີການຜຸພັງ photochemical ສໍາລັບການເຊື່ອມໂຊມຂອງມົນລະພິດປະກອບມີຂະບວນການທີ່ກ່ຽວຂ້ອງກັບການຜຸພັງ photochemical ທັງສອງ catalytic ແລະບໍ່ catalytic. ອະດີດມັກຈະໃຊ້ອົກຊີເຈນແລະໄຮໂດເຈນ peroxide ເປັນສານຕ້ານອະນຸມູນອິສະລະແລະອີງໃສ່ແສງ ultraviolet (UV) ເພື່ອເລີ່ມຕົ້ນການຜຸພັງແລະການທໍາລາຍຂອງມົນລະພິດ. ອັນສຸດທ້າຍ, ເອີ້ນວ່າການຜຸພັງ photocatalytic, ໂດຍທົ່ວໄປສາມາດຖືກຈັດປະເພດເປັນ catalysis homogeneous ແລະ heterogeneous.
ໃນການເຊື່ອມໂຊມຂອງ photocatalytic heterogeneous, ຈໍານວນທີ່ແນ່ນອນຂອງວັດສະດຸ semiconductor photosensitive ໄດ້ຖືກນໍາສະເຫນີເຂົ້າໄປໃນລະບົບມົນລະພິດ, ສົມທົບກັບຈໍານວນທີ່ແນ່ນອນຂອງ radiation ແສງສະຫວ່າງ. ອັນນີ້ສົ່ງຜົນໃຫ້ເກີດຄວາມຕື່ນເຕັ້ນຂອງຄູ່ “ຮູເອເລັກໂທຣນິກ” ຢູ່ເທິງພື້ນຜິວເຊມິຄອນດັອດສະເຕີທີ່ອ່ອນໄຫວພາຍໃຕ້ການຮັບແສງ. ອົກຊີເຈນທີ່ລະລາຍ, ໂມເລກຸນຂອງນ້ໍາ, ແລະສານອື່ນໆທີ່ດູດຊຶມຢູ່ໃນ semiconductor ພົວພັນກັບຄູ່ "ຂຸມເອເລັກໂຕຣນິກ", ເກັບຮັກສາພະລັງງານເກີນ. ນີ້ອະນຸຍາດໃຫ້ອະນຸພາກ semiconductor ເອົາຊະນະອຸປະສັກປະຕິກິລິຢາ thermodynamic ແລະເຮັດຫນ້າທີ່ເປັນ catalysts ໃນປະຕິກິລິຍາ catalytic ຕ່າງໆ, ການສ້າງຮາກ oxidative ສູງເຊັ່ນ: •HO. ອະນຸມູນອິດສະລະເຫຼົ່ານີ້ຊ່ວຍອໍານວຍຄວາມສະດວກໃນການເຊື່ອມໂຊມຂອງມົນລະພິດໂດຍຜ່ານຂະບວນການເຊັ່ນການເພີ່ມ hydroxyl, ການທົດແທນ, ແລະການໂອນເອເລັກໂຕຣນິກ.
ວິທີການຜຸພັງ photochemical ກວມເອົາການຜຸພັງ photosensitized, ການຜຸພັງ photoexcited, ແລະການຜຸພັງ photocatalytic. ການຜຸພັງ photochemical ສົມທົບການຜຸພັງທາງເຄມີແລະ radiation ເພື່ອເພີ່ມອັດຕາແລະຄວາມສາມາດໃນການຜຸພັງຂອງປະຕິກິລິຍາ oxidation ເມື່ອທຽບກັບການຜຸພັງທາງເຄມີຂອງບຸກຄົນຫຼືການປິ່ນປົວລັງສີ. ແສງ Ultraviolet ຖືກນໍາໃຊ້ທົ່ວໄປເປັນແຫຼ່ງຮັງສີໃນການຜຸພັງ photocatalytic.
ນອກຈາກນັ້ນ, ຈໍານວນສານອອກຊີເຈນທີ່ກໍານົດໄວ້ລ່ວງຫນ້າເຊັ່ນ hydrogen peroxide, ozone, ຫຼື catalysts ບາງຕ້ອງໄດ້ຮັບການນໍາສະເຫນີເຂົ້າໄປໃນນ້ໍາ. ວິທີການນີ້ແມ່ນມີປະສິດທິພາບສູງສໍາລັບການໂຍກຍ້າຍຂອງໂມເລກຸນອິນຊີຂະຫນາດນ້ອຍ, ເຊັ່ນ: ສີຍ້ອມ, ທີ່ມີຄວາມຫຍຸ້ງຍາກໃນການຍ່ອຍສະຫຼາຍແລະມີສານພິດ. ປະຕິກິລິຍາຜຸພັງ photochemical ສ້າງຮາກທີ່ມີປະຕິກິລິຍາສູງຈໍານວນຫລາຍໃນນ້ໍາ, ເຊິ່ງສາມາດທໍາລາຍໂຄງສ້າງຂອງທາດປະສົມອິນຊີ.
ເວລາປະກາດ: ກັນຍາ-07-2023
